COMPÓSITO HKUST@MC RESISTENTE E ESTÁVEL PARA DESSULFURIZAÇÃO ADSORTIVA DE GÁS ALTAMENTE EFICIENTE

Flávia Heredia E Silva; Aline Farias Moreira da Silva; Celia Machado Ronconi; Alexandre Amaral Leitão; Charlane Cimini Corrêa; Leonã da SIlva Flores

Todos os Trabalhos

Trabalho

Título do Trabalho

COMPÓSITO HKUST@MC RESISTENTE E ESTÁVEL PARA DESSULFURIZAÇÃO ADSORTIVA DE GÁS ALTAMENTE EFICIENTE

Autores

Flávia Heredia E Silva
Aline Farias Moreira da Silva
Celia Machado Ronconi
Alexandre Amaral Leitão
Charlane Cimini Corrêa
Leonã da SIlva Flores

Modalidade

Apresentação Oral

Área temática

Nanomateriais e materiais funcionais: eletrônica, fotônica, inovações e novas possibilidades

Data de Publicação

15/07/2025

País da Publicação

Brasil

Idioma da Publicação

Português

Página do Trabalho

https://www.even3.com.br/anais/i-simposio-nacional-mulheres-nanociencia/1084520-composito-hkustmc-resistente-e-estavel-para-dessulfurizacao-adsortiva-de-gas-altamente-eficiente

ISBN

978-65-272-1585-1

Título do Evento: I Simpósio Nacional de Mulheres na Nanociência
Cidade do Evento: Juiz de Fora
Título dos Anais do Evento: Anais do Simpósio Nacional de Mulheres na Nanociência
Nome da Editora: Even3
Meio de Divulgação: Meio Digital

Como citar

SILVA, Flávia Heredia E et al.. COMPÓSITO HKUST@MC RESISTENTE E ESTÁVEL PARA DESSULFURIZAÇÃO ADSORTIVA DE GÁS ALTAMENTE EFICIENTE.. In: Anais do Simpósio Nacional de Mulheres na Nanociência. Anais...Juiz de Fora(MG) UFJF, 2025. Disponível em: https//www.even3.com.br/anais/i-simposio-nacional-mulheres-nanociencia/1084520-COMPOSITO-HKUSTMC-RESISTENTE-E-ESTAVEL-PARA-DESSULFURIZACAO-ADSORTIVA-DE-GAS-ALTAMENTE-EFICIENTE. Acesso em: 25/07/2025