Publicado em 30/12/2020 - ISBN: 978-65-5941-065-1
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SPIGAROLLO, DANIELLE CRISTINA FERNANDES DA SILVA et al.. DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS MULTICAMADAS SIO2/AL2O3 POR DEPOSIÇÃO ATÔMICA À PLASMA.. In: Anais da 1ª Reunião Técnica Virtual do Programa de Pós-Graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais (POSMAT). Anais...Bauru(SP) online, 2020. Disponível em: https//www.even3.com.br/anais/rtvposmat/317909-DEPOSICAO-DE-FILMES-FINOS-MULTICAMADAS-SIO2AL2O3-POR-DEPOSICAO-ATOMICA-A-PLASMA. Acesso em: 20/07/2025
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