CARACTERIZAÇÃO MORFOLÓGICA DE NANOESTRUTURAS DE SILÍCIO

Publicado em 22/03/2021 - ISBN: 978-65-5941-128-3

Título do Trabalho
CARACTERIZAÇÃO MORFOLÓGICA DE NANOESTRUTURAS DE SILÍCIO
Autores
  • Rodrigo Pinto de Souza
  • Germano Maioli Penello
  • Antonio Carlos Fontes dos Santos
  • Marcelo Martins Sant'Anna
  • Camilla
Modalidade
Resumo apresentação oral padrão
Área temática
Centro de Ciências Matemáticas e da Natureza (CCMN)/Física
Data de Publicação
22/03/2021
País da Publicação
Brasil
Idioma da Publicação
Português
Página do Trabalho
https://www.even3.com.br/anais/jgmictac/319445-caracterizacao-morfologica-de-nanoestruturas-de-silicio
ISBN
978-65-5941-128-3
Palavras-Chave
nanoestruturas, irradiação
Resumo
Nanoestruturas de materiais semicondutores, principalmente silício, desempenham um importante papel nas indústrias de dispositivos microeletrônicos e fotônicos. Inúmeras técnicas podem ser utilizadas para a síntese e caracterização dessas estruturas. Neste projeto exploramos a síntese de nanoestruturas de silício a partir da técnica de ion beam sputtering (ejeção por feixe de íons) e apresentamos sua caracterização morfológica a partir da técnica de microscopia de força atômica. Utilizamos uma amostra composta por silício e recoberta por um filme fino de dióxido de silício com 50 nm de espessura SiO2(50nm)/Si. A amostra foi irradiada por íons de Cs de 2 KeV de energia na fonte de íons SNICS de um acelerador eletrostático do tipo Tandem. A irradiação provoca ejeção do material da superfície da amostra e induz um processo de auto-organização na superfície, fazendo com que o Si remanescente se rearranje, formando estruturas peculiares, com um formato bullet shape. Neste trabalho apresentamos imagens de microscopia da superfície irradiada. As imagens são analisadas pelo software Gwyddion e a partir delas é possível obter uma caracterização morfológica das estruturas sintetizadas, permitindo a identificação da presença de um padrão em sua formação
Título do Evento
XLII Jornada Giulio Massarani de Iniciação Científica, Tecnológica, Artística e Cultural (JICTAC 2020 - Edição Especial) - Evento UFRJ
Título dos Anais do Evento
Anais da Jornada Giulio Massarani de Iniciação Científica, Tecnológica, Artística e Cultural
Nome da Editora
Even3
Meio de Divulgação
Meio Digital

Como citar

SOUZA, Rodrigo Pinto de et al.. CARACTERIZAÇÃO MORFOLÓGICA DE NANOESTRUTURAS DE SILÍCIO.. In: Anais da Jornada Giulio Massarani de Iniciação Científica, Tecnológica, Artística e Cultural. Anais...Rio de Janeiro(RJ) UFRJ, 2021. Disponível em: https//www.even3.com.br/anais/jgmictac/319445-CARACTERIZACAO-MORFOLOGICA-DE-NANOESTRUTURAS-DE-SILICIO. Acesso em: 15/02/2025

Trabalho

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